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產品型號:OTF-1200X-Ⅱ-S2
更新時間:2024-11-05
廠商性質:生產廠家
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0755-26959531
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性能指標和基本配置 | |
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管式爐 | ● 雙溫區管式爐:兩個獨立的溫控系統對每個溫區進行獨立控溫 ● 電壓:220V AC 50/60Hz ● 功率:3KW ● 加熱區長度:440mm ● 恒溫區長度:300mm ● 溫度曲線圖(兩個溫區設置在800℃時所測,僅供參考)(可點擊圖片查看詳細資料) ● 爐管材料:高純石英管 ● 標配爐管尺寸:Φ100(外)×Φ94(內)×640(長)● 最高工作溫度:1200℃(<1h) ● 連續工作溫度:1100℃ ● 控溫精度:±1℃ ● 推薦升溫速率:10℃/min |
坩堝推送機構(升降雙通道進料系統) | ● 一根鎧裝熱電偶通過左端法蘭通入爐管內部,并與坩堝相連接,實現溫度的實時監測(如圖1) ● 升降雙通道進料系統放置在一中空的真空腔體中,上方采用不銹鋼真空法蘭進行密封,兩端同樣采用不銹鋼真空法蘭與坩堝推進裝置及管式爐進行連接,保證進料在真空狀態或者氣氛保護狀態下進行運作(圖2) ● 進料系統真空腔體右端與管式爐連接法蘭處安裝有2個獨立小石英管(圖3) ● 在升降雙通道進料系統中最多可放入4個坩堝(圖4),利用推送系統可交替將4個不同蒸發源單個依次送入石英管中,也可將放入不同材料的2個坩堝蒸發源一同送入,分別精確的推入兩個獨立的小石英管中(圖5),找到所需的蒸發溫度處進行共蒸發或者反應蒸發,保證實驗的重復性以及穩定性(圖6) |
坩堝推送控制系統 | ● 采用PLC觸摸屏控制 ● 通過一步進電機控制坩堝的移動速度和位置,進樣位置和速度可調 ● 可控制坩堝最小移動位移為1mm ● 坩堝最大移動距離為200mm |
真空表 | 機械壓力表+數顯壓力表 |
真空泵 | 真空度:10E-2 torr(采用機械泵),10-E5 torr(采用分子泵) |
混氣系統 | ● 此套設備中配有一2路混氣系統 ● 最大輸出功率:18W ● 工作溫度:5-45℃ ● 精度:±1%FS ● 質量流量計量程:1:0-100sccm 2:1-199sccm ● 可根據客戶要求選購1-5路供氣系統 |
水冷系統 | 標配一16L循環水冷系統 |
尺寸 | 2600mm(L) x 600mm(W) x 900mm(H) |
質保期 | 一年質保期,終生維護 |
質量認證 | ● CE認證 ● 所有電器元件(>24V)都通過UL?/?MET?/?CSA認證 ● 若客戶出認證費用,本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CAS認證 |
使用注意事項 | ● 爐管內氣壓不可高于0.02MPa ● 由于氣瓶內部氣壓較高,所以向爐管內通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全 ● 當爐體溫度高于1000℃時,爐管內不可處于真空狀態,爐管內的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態 ● 進入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊 ● 石英管的長時間使用溫度<1100℃ ● 對于樣品加熱的實驗,不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關注壓力表的示數,若氣壓表示數大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發生(如爐管破裂,法蘭飛出等) |
應用舉例 | ● 此款管式爐具有多種用途: ● 熱蒸發:將蒸發料放入坩堝中,通過移動坩堝來精確找到所需蒸發溫度 ● HPCVD:通入反應氣體實現反應蒸發沉積 ● 共蒸發沉積或反應蒸發沉積:利用*的雙通道進料裝置可以實現兩蒸發源的同時送入,實現共蒸發沉積或反應蒸發沉積 ● 多層二維晶體:此套設備可以實現多層二維晶體的制備(硒化物硫化物等),操作方便簡單,實驗更具精確性、重復性。 |
OTF-1200X-Ⅱ-S2 1200℃多坩堝同時移動型管式爐
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